美国全力限制中国发展先进芯片，但华为已成功突围，美媒指出，中芯今年将为华为生产5纳米芯片，而且无需使用ASML的极紫外（EUV）光刻机，令人惊艳。
根据PhoneArena报导，去年中芯7纳米制程让华为大翻身，成功推出5G旗舰手机Mate 60系列，今年中芯再上一层楼，将为华为生产5纳米芯片，此消息让人震惊，因为中国积极想实现半导体自给自足。
《韩国商业报》指出，中芯可能使用被制裁前购买的旧深紫外线（DUV）曝光机制造5纳米芯片，这对中芯和华为都是一件大事，这让华为更接近3纳米制程，将用于制造2025年旗舰手机内的先进晶片。
报导提到，对中国来说，生产5纳米芯片是一件大事，中国寻求实现半导体自给自足。一位业内人士指出，华为设计芯片和中芯制造芯片，让中国「半导体独立」趋势越来越明显。
